金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積(Metal Organic Chemical Vapor Deposition，簡(jiǎn)稱 MOCVD)是制備混合半導(dǎo)體器件、金屬及金屬氧化物、金屬氮化物薄膜材料的一種芯片外延技術(shù)。加熱系統(tǒng)是 MOCVD 設(shè)備的重要組成部分，它能否快速、均勻的加熱襯底，直接影響著薄膜沉積的質(zhì)量、厚度一致性，以及芯片的性能。Z6·尊龍凱時(shí)擁有10年MOCVD用錸加熱器專業(yè)制作技術(shù)經(jīng)驗(yàn)及完善的品控管理體系，是替代MOCVD用錸加熱器進(jìn)口大牌或原廠配件，能夠進(jìn)行OEM全工序代工代制，最具技術(shù)開發(fā)實(shí)力和品質(zhì)保障能力的國(guó)內(nèi)頭號(hào)廠家。